7月8日，中国感光学会在中科院理化所组织召开2020十大工程技术难题——“如何突破光刻技术难题”专家座谈会。座谈会采用现场和视频同步方式召开。

　　中国科学院院士杨万泰、佟振合、彭孝军、吴骊珠，中国工程院院士许祖彦、罗先刚、刘文清，中国感光学会理事长、理化所所长张丽萍，名誉理事长蒲嘉陵，副理事长杨建文、邹应全，荣誉理事洪啸吟，秘书长、理化所副所长汪鹏飞，常务副秘书长任俊，选题撰写作者梁红波，工业和信息化部、国家自然科学基金委员会、科技部高新技术司有关领导，高校、科研院所和行业企业专家代表共60余人参加了座谈会。张丽萍理事长主持会议。

　　为研判未来科技发展趋势、前瞻谋划和布局前沿科技领域与方向，瞄准世界科技前沿，推进世界科技强国建设，中国科协通过各全国学会、学会联合体、部分中央企业和非公企业科协，面向广大科技工作者征集“2020重大科学问题和工程技术难题”。

　　张丽萍理事长首先介绍了中国感光学会提出的难题提案——“如何突破光刻技术难题”入选2020年十大重大工程技术难题的相关情况和中国科协对入选问题难题的后续工作要求。

　　选题撰写作者南昌航空大学梁红波教授汇报了工作进展，详细介绍了“如何突破光刻技术难题”的问题背景、重要意义、最新进展、主要难点及其相关政策建议等。杨建文副理事长对工作进展进行了补充。

　　在研讨环节，与会专家围绕突破光刻技术难题的进展情况、光刻技术面临的主要问题、光刻技术应用情况以及突破难题的技术与政策建议等进行了热烈讨论，为进一步完善专题建议报告提出了意见和建议。会后，学会将及时总结材料，形成《科技工作者建议》，呈报相关部门决策参考使用。

　　此次座谈会旨在跟踪了解难题研究进展，分析难点与挑战，提出技术与政策建议，形成难题研究专项报告《科技工作者建议》，使入选问题难题服务国家科技决策、纳入国家规划、与国家重大工程项目结合，推动关键技术联合攻坚、促进应用推广，为我国光刻技术跨越发展，解决微电子制造的“卡脖子”技术难题做出贡献。

中国感光学会“如何突破光刻技术难题”座谈会会场

中国感光学会“如何突破光刻技术难题”座谈会会场

座谈会采用现场和视频同步方式召开