生产厂家：自行研制

　　操作方式：管理人员操作

　　放置地点：1号楼113房间

　　服务时间：周一至周五，8:00-17:00

　　管理人员：田利丰，李敬

　　联系方式：010-82543526/82543459；tianlifeng@mail.ipc.ac.cn

　　仪器简介：真空热蒸镀是一种常用的薄膜沉积工艺方法，可以进行金属膜以及有机薄膜的制备。真空热蒸镀的特点是纯度高、厚度可较准确控制、成膜速率好、效率高，而且在带胶剥离制备图案结构有优势。该复合系统由有机蒸发室、金属蒸发室及传递室真空系统组成，各个系统独立控制，并且真空系统均由分子泵（抽速1200 L/s）、机械泵（抽速9 L/s）组成。极限真空度为5.0×10-4 Pa，膜厚均匀性优于±5%，膜厚精度可达0.1 nm，样品最大尺寸20 mm×20 mm，有机蒸发室的衬底温度可加热至300 ℃，金属蒸发室衬底温度可加热至800 ℃。样品制备后可以通过真空传递室运送到手套箱进行真空条件下的光电性能检测。

　　功能用途：热蒸发系统可以生长Ag、Au等金属薄膜以及有机薄膜，可用于OLED等微纳器件的制备和光电性能检测。