仪器型号：QPrep 400-BASE

　　生产厂家：英国Mantis公司

　　操作方式：管理人员与用户操作相结合

　　放置地点：1号楼104房间

　　服务时间：周一至周五，8:00-17:00

　　管理人员：田利丰

　　联系方式：010-82543460/3526；tianlifeng@mail.ipc.ac.cn

　　仪器简介：磁控溅射镀膜仪是一种普适的薄膜沉积系统，用于各种单层膜、多层膜以及掺杂薄膜的制备。磁控溅射沉积薄膜的特点是成膜速率高、基片温度低、薄膜与基底的粘附性好，而且可实现大面积镀膜。该设备配备抽速685 升/秒的分子泵，主腔室真空可优于5 × 10-8 Torr。配备3台3英寸的溅射靶枪，可分别与射频电源和直流电源连接；射频电源和直流电源的最大功率分别为600 W和750 W。样品最大尺寸为4英寸，可以为圆形或不规则形状的基片。样品台可以加热至800°C。样品台可旋转，提高了成膜的均匀性。

　　功能用途：磁控溅射仪可以生长Ag、Pt、Au等金属薄膜及合金薄膜、半导体薄膜、介质薄膜等，用于新型薄膜材料和微纳器件的制备。