仪器型号：TFS 200

　　生产厂家：芬兰Beneq公司

　　操作方式：管理人员与用户操作相结合

　　放置地点：1号楼124房间

　　服务时间：周一至周五，8:00-17:00

　　管理人员：李玄泽

　　联系方式：010-82543562; lixuanze@mail.ipc.ac.cn

　　仪器简介：热反应腔最大直径，200mm；最高加热温度，400℃；样品尺寸，8英寸及以下；沉积材料，氧化铝、二氧化铪和氮化钛等纳米薄膜材料；厚度均匀性：≤±1.0% (4英寸)。

　　功能用途：该系统具备热ALD沉积功能，可用于8英寸及以下尺寸的基底氧化铝、二氧化铪和氮化钛等纳米薄膜材料的沉积。