仪器型号：ABM/6/350/NUV/DCCD/M

　　生产厂家：美国ABM公司

　　操作方式：使用者在培训后自行操作

　　仪器位置： 1号楼332房间

　　服务时间：周一至周五，9:00-17:00

　　管理人员：李敬

　　联系方式：010-82543561；lijingsp@mail.ipc.ac.cn

　　仪器简介：紫外光刻机采用高压紫外汞灯作为光源，将掩模版上的图案转移到光刻胶涂层上，进行大面积、微结构光刻胶图案的制备。该设备可以进行6英寸及以下基片的光刻工艺。光强均匀性：2英寸以内<±1%、4英寸以内<±2%、 6英寸以内<±3%。支持真空、接近式、接触式曝光模式。硬接触曝光分辨率为0.5μm，接近式曝光分辨率为1μm；正面套刻对准精度为1μm。正面对准精度：±0.5um-±1um；视频显微系统90-600倍数可连续放大。厚度100um的厚胶工艺深宽比大于5：1。另配多功能匀胶烘胶机（美国ABM公司，型号CEE200CBX）。匀胶机的转速范围：1-12000 rpm，匀胶均匀性< ±0.3%（4英寸范围内）。热板温度控制范围：室温-300°C；热板温度控制精度：±1°C；温度均匀性<±0.3%。触摸屏操作，Windows系统控制。

　　功能用途：多功能匀胶烘胶机应用于薄膜工艺中光刻胶的涂覆、烘烤。紫外光刻机可进行规则及不规则形状的基片上、大面积光刻胶微结构图案的制备，以及厚胶的光刻工艺、以及微流道器件的构筑。