N. Shi博士作报告

7月15日，应中科院低温工程学重点实验室低温材料及低温技术研究中心邀请，美国日立环球存储科技首席高级研发人员N. Shi博士来理化所进行学术交流，并作了题为Technology Transfer-from Science to Product的学术报告。

报告中，N. Shi博士介绍了目前最新的TB级硬盘垂直记录技术的理论基础和磁头制造工艺，重点讲述了从科学研究到产品制造这一过程的实现。

报告会后，N. Shi博士与赵震声副所长、李青研究员、李来风研究员进行了热烈的讨论，并参观了低温材料及低温技术研究中心实验室，对实验工作提出了一些意见和建议。