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氦离子显微镜

发表日期: 2016-03-23
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仪器型号:Orion NanoFab

生产厂家:Carl ZeissUSA

操作方式:由管理人员操作

仪器位置:理化所1号楼104

服务时间:周一至周五

管理人员:田利丰

联系方式:010-82543460/3526tianlifeng@mail.ipc.ac.cn

仪器简介:该设备可根据需要对材料进行亚纳米级到微米的精确加工和高分辨成像。利用其配置的氦、氖、镓三离子束和气体注入系统对样品材料按照需求进行高精度、高效、大范围的切割或沉积,并进行原位高分辨成像。

详情参见:http://www.zeiss.com.cn/microscopy/zh_cn/products/multiple-ion-beam/orion-nanofab-materials.html 

仪器指标: 

1. 视野范围:900μm~100nm @ 8mm 工作距离; 

2. 氦离子束:成像分辨率0.5nm;束流0.1~10pA;切割线宽≤10nm 

3. 氖离子束:成像分辨率1.9nm;束流0.1~50pA;切割线宽≤15nm 

4. 镓离子束:成像分辨率3.0nm;束流1pA~100nA;切割线宽≤50nm 

5. 气体注入系统:目前已有气源WPt 

功能用途:样品材料的亚纳米级到微米级的精确加工和高分辨成像。

主要附件和功能:利用NPVE软件可以进行刻蚀图案的制作与加工;GIS附件功能可以进行在样品表面精确沉积WPtPlasma Cleaning附件保证样品表面的洁净。 

 

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