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紫外光刻机

发表日期: 2014-12-17
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仪器型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/M
生产厂家:美国ABM公司
投入使用日期:2013年7月
操作方式:使用者在培训后自行操作
仪器位置:理化所1号楼103
服务时间:周一至周五,9:00-17:00
管理人员:李敬
联系方式:010-82543526/82543459; lijingsp@mail.ipc.ac.cn
仪器简介:紫外光刻机采用高压紫外汞灯作为光源,将掩模版上的图案转移到光刻胶涂层上,进行大面积、微结构光刻胶图案的制备。该设备可以进行6英寸及以下基片的光刻工艺。光强均匀性:2英寸以内<±1%、4英寸以内<±2%、 6英寸以内<±3%。支持真空、接近式、接触式曝光模式。硬接触曝光分辨率为0.5µm,接近式曝光分辨率为1µm;正面套刻对准精度为1µm。正面对准精度:±0.5um-±1um;视频显微系统90-600倍数可连续放大。厚度100um的厚胶工艺深宽比大于5:1。
功能:
紫外光刻机可进行规则及不规则形状的基片上、大面积光刻胶微结构图案的制备。并且可以进行厚胶的光刻工艺、以及微流道器件的构筑。
评 论
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