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磁控溅射镀膜仪

发表日期: 2014-12-17
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仪器型号:QPrep 400-BASE
生产厂家:英国Mantis公司
投入使用日期:2013年12月
操作方式:由管理人员操作 (常用者可培训后自行操作)
仪器位置:理化所1号楼104
服务时间:周一至周五,9:00-17:00
管理人员:李敬
联系方式:010-82543526/82543459; lijingsp@mail.ipc.ac.cn
仪器简介:磁控溅射镀膜仪是一种普适的薄膜沉积系统,用于各种单层膜、多层膜以及掺杂薄膜的制备。磁控溅射沉积薄膜的特点是成膜速率高、基片温度低、薄膜与基底的粘附性好,而且可实现大面积镀膜。
该设备配备抽速685 升/秒的分子泵,主腔室可以实现优于5 × 10-9 Torr的极限真空度。配备3台3英寸的溅射靶枪,可分别与射频电源和直流电源连接;射频电源和直流电源的最大功率分别为600 W和750 W。样品最大尺寸为4英寸,可以为圆形或不规则形状的基片。样品台可以加热至800°C。样品台可旋转,提高了成膜的均匀性。
功能:
磁控溅射仪可以生长Ag等金属薄膜及合金薄膜、半导体薄膜、介质薄膜等,用于新型薄膜材料和微纳器件的制备。
评 论
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